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產(chǎn)品資料
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實驗室用緊湊型真空鍍膜機(jī)射設(shè)備

產(chǎn)品名稱: 實驗室用緊湊型真空鍍膜機(jī)射設(shè)備
產(chǎn)品型號: SC-701MkII
產(chǎn)品特點: 實驗室用緊湊型真空鍍膜機(jī)射設(shè)備
特點
超緊湊機(jī)身設(shè)計:作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī),機(jī)身尺寸僅為160mm×450mm×290mm,真空系統(tǒng)內(nèi)置,便于放置在實驗臺上,節(jié)省空間。

實驗室用緊湊型真空鍍膜機(jī)射設(shè)備 的詳細(xì)介紹

實驗室用緊湊型真空鍍膜機(jī)射設(shè)備

實驗室用緊湊型真空鍍膜機(jī)射設(shè)備

特點

  1. 超緊湊機(jī)身設(shè)計:作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī),機(jī)身尺寸僅為160mm×450mm×290mm,真空系統(tǒng)內(nèi)置,便于放置在實驗臺上,節(jié)省空間。
  2. 簡易操作:附帶小型真空計,能夠管理成膜條件,確保成膜條件的可再現(xiàn)性。
  3. 專用試料臺與靶材臺:配備專用的試料臺與靶材臺,可以簡單地調(diào)節(jié)靶材與基板之間的間距,方便操作。
  4. 多功能性:可用于電極鍍膜,也可用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品的鍍膜。
  5. 高精度濺射:采用DC磁控濺射方式,濺射時間可從0至15分鐘調(diào)節(jié),最長可達(dá)30分鐘(在連續(xù)模式下),濺射真空范圍為5~30Pa。

技術(shù)參數(shù)

表格
復(fù)制
參數(shù)詳情
樣品室直徑90mm×90mm高,SUS材質(zhì)
靶材標(biāo)配Au,Pt/Pt-Pd/Au-Pd/Pd/Ag可選,φ49mm
樣品臺直徑:50mm
濺射方式DC磁控濺射
濺射時間0~15分鐘,最長30分鐘(在連續(xù)模式下)
濺射真空5~30Pa
高壓/電流1.2kV/9.9mA
進(jìn)氣控制針閥控制
抽氣速率20L/MIN

應(yīng)用

  • 電極鍍膜:適用于制作薄電極膜,特別適合于需要高精度的電極膜制備。
  • 掃描電鏡成像:可用于非導(dǎo)電樣品的鍍膜,提高樣品的導(dǎo)電性,便于進(jìn)行掃描電鏡觀察。
SC-701Mk因其超緊湊的設(shè)計、簡易的操作和多功能性,成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。

特點

  1. 超緊湊機(jī)身設(shè)計:作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī),機(jī)身尺寸僅為160mm×450mm×290mm,真空系統(tǒng)內(nèi)置,便于放置在實驗臺上,節(jié)省空間。
  2. 簡易操作:附帶小型真空計,能夠管理成膜條件,確保成膜條件的可再現(xiàn)性。
  3. 專用試料臺與靶材臺:配備專用的試料臺與靶材臺,可以簡單地調(diào)節(jié)靶材與基板之間的間距,方便操作。
  4. 多功能性:可用于電極鍍膜,也可用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品的鍍膜。
  5. 高精度濺射:采用DC磁控濺射方式,濺射時間可從0至15分鐘調(diào)節(jié),最長可達(dá)30分鐘(在連續(xù)模式下),濺射真空范圍為5~30Pa
    。

技術(shù)參數(shù)

表格
復(fù)制
參數(shù)詳情
樣品室直徑90mm×90mm高,SUS材質(zhì)
靶材標(biāo)配Au,Pt/Pt-Pd/Au-Pd/Pd/Ag可選,φ49mm
樣品臺直徑:50mm
濺射方式DC磁控濺射
濺射時間0~15分鐘,最長30分鐘(在連續(xù)模式下)
濺射真空5~30Pa
高壓/電流1.2kV/9.9mA
進(jìn)氣控制針閥控制
抽氣速率20L/MIN

應(yīng)用

  • 電極鍍膜:適用于制作薄電極膜,特別適合于需要高精度的電極膜制備
    。
  • 掃描電鏡成像:可用于非導(dǎo)電樣品的鍍膜,提高樣品的導(dǎo)電性,便于進(jìn)行掃描電鏡觀察
SC-701Mk因其超緊湊的設(shè)計、簡易的操作和多功能性,成為實驗室和小規(guī)模生產(chǎn)中理想的濺射設(shè)備。


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